微芸离子束刻蚀机(IBE) 是利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，氩离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用，属纯物理刻蚀。
离子束刻蚀系统可以进行材料表面处理、形貌修饰、损伤去除，是微纳加工必备的加工手段。尤其在金属刻蚀和光电类材料刻蚀。广泛应用于副产物非挥发材料，光电材料的打开、材料表面处理和改性等应用。基于离子束刻蚀原理，通过物理轰击的方式去除被刻蚀材料，能够用于刻蚀磁性材料及难挥发的金属材料如Au,Ag,Pt,Ni等。
具有惰性离子束刻蚀功能，适用于8英寸及以下晶圆的垂直和倾斜刻蚀。无加工材料限制，可刻蚀硅、氧化硅、氮化硅、碳化硅、金刚石、铌酸锂、金属、金属氧化物和超导等材料
集成化设计和供应链成熟协调，系统运行稳定，成熟度高;
载台为真空多轴运动 ，冷却液管路以及控制线路通过磁流体进出;
采用气缸驱动弹性片托夹实现wafer夹持;
载台设计有液冷和背He冷却系统，测温热偶实时测量基片温度变化情况，闭环控制，调整算法融入整体热模型，改善温度控制响应速度和控制精度。
