公司以自主研发的ICP、CCP等刻蚀设备为基础,聚焦半导体及泛半导体中化合物半导体、微机电系统、微显示和照明及光栅等新兴领域的刻蚀需求,定制化的研发DSE、ALE和IBE等专用刻蚀设备,通过定制化设备+生态绑定合作满足不同客户对高性能、高可靠性的专用半导体设备需求,帮助客户快速实现新产品的商业化;同时在积极筹划12英寸先进刻蚀制程设备的研发和生产计划。
公司凭借在半导体设备领域的丰富经验和深厚底蕴,不断进行创新和技术突破。其自主研发制造的电容耦合等离子体干法刻蚀机(CCP)和电感耦合等离子体干法刻蚀机(ICP)等产品,在化合物半导体领域的相关工艺节点应用中表现出色,已开始向多家客户规模化出货。
上海微芸半导体科技有限公司是一家致力于自主研发、生产、服务的第三代半导体设备制造商,产品广泛应用于化合物半导体、MEMS、功率器件等领域。公司始终坚持“质量第一、客户至上”的原则,研发团队成员均来自行业内知名半导体设备厂商,拥有多名博士、硕士、高级工程师等高学历管理和技术人才,通过先进的技术、严格的质量管控,利用在12寸半导体设备研发上的经验,不断创新,致力于为市场提供更高性能、更贴近客户需求的量产设备。
上海微芸科技创始人与核心团队成员均源自国内头部半导体设备制造供应商刻蚀部门研发团队。自2008年起,他们投身于国内首台16nm刻蚀设备的研发工作,并成功将其推向市场。随后,作为关键成员,再度参与了中国第一台12寸14nm刻蚀设备的研发并实现量产。在市场需求的推动下,公司组建了一支由半导体设备制造领域拥有丰富经验的技术领军人物及设计精英构成的骨于团队,利用在半导体设备领域的丰富经验和深厚底蕴,首先聚焦8英寸ICP、CCP、TSV设备,致力于在SiC、IGB]介质材料等关键领域内,形成全系列更可靠、更贴合用户需求的高性能产品。
微芸ICP干法刻蚀系统是一款高性能且广泛适用的大规模量产型设备,兼容6/8英寸,适用于各种刻蚀需求。其操作简单,便于自动控制,尤其适合大面积基片刻蚀。系统具备优异的刻蚀均匀性和快速刻蚀速率,确保了高效、精确的刻蚀效果。同时,高选择比和高各向异性使刻蚀过程更为精准,减少损伤。此外,高断面轮廓可控性保证了刻蚀表面的平整光滑。该系统可以根据客户要求选择气体种类进行配置。
微芸CCP干法刻蚀系统是一款高效、经济的大规模量产型设备,兼容6/8英寸,适用于不同刻蚀需求。该设备具备出色的刻蚀形貌和工艺性能,高选择比和高刻蚀速率提升了生产效率。该系统可以根据客户要求选择气体种类进行配置。






